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上海新阳收到ASML-1400光刻机:研发193nm光刻胶
发布时间: 2021-11-25

  3月8日,上海新阳半导体材料股份有限公司发布公告,披露了关于购买ASML-1400光刻机的最新进展。

  据介绍,上海新阳自立项开发193nmArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来,安排购买了ASML-1400光刻机等核心设备,并于2020年12月14日披露,该光刻机将于2020年底前运抵国内。

  不过此后,由于上海新阳与光刻机供应商、北方集成电路技术创新中心(毕竟)有限公司在沟通协调设备运输与安装等细节方面遇到波折,光刻机设备没能在规定时间内运达。

  随后,双方就具体合作细节签署了《合作框架协议》,预计该光刻机将于2021年3月底前进入北方集成电路现场。

  现经各方积极协商、运作,这台光刻机设备于今日已进入北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司的场地,后续将进行安装调试等相关工作。

  上海新阳表示,采购的ASML干法光刻机设备顺利交付,对加快193nm ArF干法光刻胶产品开发进度有积极影响,有利于进一步提升公司光刻胶产品的核心竞争力,加快落实公司发展战略,提高公司抗风险能力和可持续发展能力。

  不过,这台光刻机尚须经过装机、调试等相关环节,如果出现工作疏漏或失误,则存在造成光刻机投入使用过程较长,甚至无法投入使用的风险。

  另外,光刻胶研发项目技术壁垒高、周期长,投入产业化并最终实现销售利润,仍需一定时间,而且价格昂贵,其折旧及后续维护费用预计对公司的经营业绩存在一定影响。(作者:上方文Q)

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